第199章 曝光次数如何影响成像质量(1 / 2)

"目前主要是准分子激光与准连续激光。

前者具有良好的相干性,后者则提供更高的光强。

二者各有千秋,还需进一步优化。"张东脱口而出。

肖光耀毫不停歇,接连发问,不留丝毫思考空间。

"曝光次数如何影响成像质量?"

"过度曝光会引发光学迁移现象,进而影响图像精度。"

"那减少曝光次数呢?"

"曝光不足会使光强下降,导致细节缺失。

需寻找最优平衡点。"

"光刻胶性能对成像效果影响几何?"

"光刻胶的散射特性和附着能力直接影响成像清晰度。"

站在一旁的倪洸楠听得目瞪口呆,心中暗忖:这两人简直是在玩知识博弈。

肖光耀自不必说,身为物理学与数学领域的翘楚,又是于勄院士的得意门生,他的学识体系几乎无懈可击。

但张东的表现却让倪洸楠深感疑惑——这样的专业深度与应变能力,难道仅仅依靠书本就能达成?没有数十年的潜心钻研,绝不可能如此透彻通晓。

就在倪洸楠惊叹之际,肖光耀也陷入震撼。

但他并未停止发问,反而精心设下几个陷阱问题,意图测试对方的真实水准。

"所以你是说增加曝光次数能减少光迁移?"肖光耀嘴角浮现一丝笑意。

"并非如此,我是说降低曝光次数可缓解光迁移效应。"张东冷静摇头。

肖光耀紧追不舍:“光刻胶水折射率提升对成像真的有帮助?”

“并无帮助,折射率与成像效果无直接关联,关键在于散射率。"

两人问答飞速交锋。

张东从容应对,思路清晰,精准把握问题核心,直击要害,迅速提供正确答案。

一时间,空气凝固,沉默笼罩全场。

肖光耀盯着张东,眼中的震撼愈发深沉。

倪洸楠张了张嘴,却无话可说。

还能说什么?

这个年轻人难道还精通物理与数学?

即便如此,也绝不可能达到这般高度。

物理和数学皆为严谨学科,不存在捷径可言。

唯有一步一脚印地积累,方能精通理论与公式。

这需要长时间专注研究,才能对各领域知识了然于胸。

根本没捷径可走。

即便是天资聪颖者,也要花费十数年乃至更久,才能构建起如此庞大的知识体系。

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